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H2C 公開ベータ、Track Switch・遠隔乾燥・回転治具に対応
01.01.50.00 で材料経路とレーザー機能を拡張。対応ソフトの条件と公測中の制限も案内。
筆者 BambuRumors · 公開日 · 1 分で読めます
Bambu Lab は 2026 年 5 月 12 日、H2C ファームウェア 01.01.50.00 の公開ベータを開始した。Bambu Handy の「自分 → ベータファームウェアプログラム」から参加でき、更新は段階的に配信される。参加を解除して最新正式版をインストールすれば安定版へ戻せる。[1]
更新:5 月 14 日:改訂された公式ノートは Filament Track Switch 対応を説明する。2 入力・2 出力で AMS の材料を 2 つのノズルへ割り当て、Studio 2.5.3.60 または Handy 3.18.0 以降を必要とする。[1]
AMS 2 Pro と AMS HT は遠隔乾燥と印刷中の乾燥に対応し、印刷中は乾燥温度を下げる。左ノズルは硬度 90A 以上の TPU を使え、LAN からの印刷開始には USB ストレージが不要となる。[1]
レーザーでは Bambu Suite 01.02.02.00 以降で Rotary Attachment を利用でき、カメラ位置合わせ、メッシュ測定、リアルタイムの角度調整画面を備える。切断モジュールの BirdsEye 初期化、ベッド下の異物検出、終了後 3 分間の空気浄化も記載する。一部設定は Studio 2.5.3 以降が必要だ。[1]
更新後はモーター騒音低減の再キャリブレーションが必要で、01.01.05.00 以前へ戻す際にも再実行する。ベータでは PTFE チューブ外れ検出を一時的に無効化するため、とくに無人運転や生産用の機械では参加前にこの制限を確認したい。[1]
[1] Bambu Lab — official source